GDZT-100-200-30密閉式制冷加熱循環(huán)器能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
| 型號 | |
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| 更新時間 | 2025-12-22 |
| 訪問次數(shù) | 2872 |
GDZT-100-200-30密閉式制冷加熱循環(huán)器技術參數(shù)：
基 本 參 數(shù) | 型號 | GDZT-100-200-30 | |
儲液槽容積（L） | 30 | ||
加熱容積（L） | 3 | ||
加熱罐尺寸(mm) | ￠90×480 | ||
油箱尺寸(mm) | 450×150×450 | ||
使用溫度范圍（℃） | -30-200 | ||
環(huán)境溫度（℃） | ≤25℃ | ||
環(huán)境相對濕度（℃） | ≤60 | ||
空載zui低溫度 | -30℃ | ||
電源 | 380V±10% 50HZ | ||
加熱功率（W) | 12000 | ||
制冷量（KW) | 200℃ | 3 | |
10℃ | 8.3 | ||
-10℃ | 6.3 | ||
-20℃ | 4.6 | ||
-30℃ | 2.6 | ||
儀表控溫范圍 | -100℃-400℃ | ||
導熱介質(zhì)溫控精度（℃） | ±0.5 | ||
反應物料溫控精度（℃） | ±1 | ||
傳感器 | PT100 | ||
介 質(zhì) 粘 度 | 500C.S.T | ||
循環(huán)泵功率（w） | 280 | ||
揚程（m) | 10 | ||
流量（L/min） | 35 | ||
壓力（Mpa） | 4 | ||
基 本 配 置 | 制冷機構 | 采用進口全封閉壓縮機 | |
冷媒 | R22/R404 | ||
循環(huán)泵規(guī)格 | 全封閉無泄露泵 | ||
進出油咀 | 6＃(低進高出) | ||
控溫方式 | 微電腦智能控溫，液晶顯示 | ||
顯示溫度分辨率 | 在控溫范圍內(nèi)任意設定，zui小顯示值0.1℃ | ||
安全保護 | 有延時、漏電、過電流、過熱保護 | ||
機體材質(zhì) | 噴塑防腐 | ||
整機尺寸(mm) | 1070×800×1430 | ||
重 量(KG) | 158 | ||
附 件 | 進出接頭（套） | 1 | |
使用說明書(份) | 1 | ||
進出液密封墊（套） | 1 | ||
不銹鋼軟管（根） | 2 | ||
GDZT-100-200-30密閉式制冷加熱循環(huán)器性能特點：
1、分三個系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng)，三個系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨使用。
2、快速加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫。
3、溫度控制范圍寬，全程不需更換導熱介質(zhì)，導熱介質(zhì)消耗少。
4、全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化，低溫下不易吸入空氣中的水分，可延長導熱流體的使用壽命。
5、高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。
6、制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。
7、液位顯示功能，隨時監(jiān)控液位，避免缺液。
8、高溫切斷、急停、延時、漏電、過電流、過熱等多重保護功能，充分保證使用安全。
9、冷凝、預冷方式為風冷，節(jié)約水資源。
功能優(yōu)點
1、智能型溫度控制。
2、溫度控制穩(wěn)定性好。
3、加熱和制冷速度快，可連續(xù)升降溫。
4、全密閉循環(huán)系統(tǒng)，延長導熱油使用壽命。
5、采用磁力驅(qū)動泵，整個溫度范圍內(nèi)實現(xiàn)零泄漏。
6、溫度范圍寬。
7、故障報警功能。
8、具有延時、過熱、過電流保護功能。
9、液位顯示功能，跟蹤監(jiān)控膨脹箱內(nèi)液位。
控制優(yōu)點
1、模糊運算和PID主動演算功能控溫精度高，可達到±0.5℃。
2、有預約功能，可設定設備自動運行時間。
3、有待機功能（控制溫度），可以準確控制實驗有效時間。
4、兩種控制方式（定值/程式）。
5、可顯示密閉制冷加熱循環(huán)裝置聯(lián)用負載的溫度變化曲線。
6、程式編程：可編50組程式，每組程式zui大為100段。
7、通訊接口。
典型應用
1、化工、制藥或生物領域雙層及三層反應釜的溫度控制。
2、攪拌罐的溫度控制。
3、材料測試中的應用。
4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。
6、恒溫控制系統(tǒng)。
7、半導體設備的溫度控制。
8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。
9、真空室的溫度控制。